NICOMP 380 ZLS&S納米粒徑與電位分析儀采用的設(shè)計(jì)理念優(yōu)化結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，充分有效地融合了動(dòng)態(tài)光散射(Dynamic Light Scattering, DLS)和電泳光散射(ELS)技術(shù)，即可以多角度（步長(zhǎng)0.9°）檢測(cè)分析液態(tài)納米顆粒系的粒度及粒度分布，又可以小角度測(cè)量Zeta電位。粒度測(cè)試范圍：0.3nm–10μm。

電泳光散射法（ELS）與粒子的動(dòng)電（Zeta）電位：

 

ELS 是將電泳和光散射結(jié)合起來(lái)的一種新型光散射。它的光散射理論基礎(chǔ)是 準(zhǔn)彈性碰撞理論，只是在實(shí)驗(yàn)時(shí)在式樣槽中多加一個(gè)外電場(chǎng)，帶電粒子即以固定 速度向與帶電粒子電性相反的電極方向移動(dòng)，與之相應(yīng)的動(dòng)力光散射光譜產(chǎn)生多普勒漂移，這一漂移正比于帶電粒子的移動(dòng)速度，因此實(shí)驗(yàn)測(cè)得譜線(xiàn)的漂移，就可以求得帶電粒子的電泳速度，從而求得ζ-電位。
 

Nicomp 380 ZLS&S納米粒徑與電位分析儀通過(guò)檢測(cè)分析膠體顆粒的電泳遷移率測(cè)量Zeta電位。Zeta電位是對(duì)顆粒之間相互排斥或吸引力的強(qiáng)度的度量，是表征膠體分散系穩(wěn)定性的重要指標(biāo)，Zeta電位（正或負(fù)）越高，體系越穩(wěn)定。Zeta電位表征的是粒子之間的排斥力。由于大部分的水相膠體體系是通過(guò)粒子之間的靜電排斥力來(lái)保持穩(wěn)定的，粒子之間的排斥力越大，粒子越不容易發(fā)生聚集，膠體也會(huì)越穩(wěn)定。Nicomp 380 ZLS&S結(jié)合了動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)（DLS）和電泳光散射法（ELS），實(shí)現(xiàn)了同機(jī)測(cè)試納米粒子分布和Zeta電勢(shì)電位。